Gunning Leveringen
Duitsland – Diverse machines voor algemeen en specifiek gebruik – Clustertool for Ion Beam Etching of 300mm wafers
Aankondiging gepubliceerd in het Duits. De AI-analyse vat ze voor u samen in uw taal.
- Acheteur public
- Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V.
Erlangen - Plaats van uitvoering
- Erlangen
- Ontvangen offertes
- 1
- Procedure
- Mededingingsprocedure met onderhandeling
U dient eerst een kandidatuur in; de geselecteerde kandidaten dienen een offerte in en onderhandelen daarna met de aankoper. - Publicatie
- 10 juli 2026
- Taal van de aankondiging
- Duits
Analyse IA : y aller ou pas ?
Samenvatting in het Nederlands, criteria, te leveren documenten en verdict GO / NO GO in één minuut.
Onbeperkte analyses tijdens de 14 dagen Pro-proefperiode, zonder kaart.
Beschrijving
The tender item is an ion beam etching process tool to be used for 300mm wafer fabrication at the FRAUNHOFER IPMS. The systems will be used for the processing of CMOS wafers in a cleanroom class 1000 (approximately class 6 EN ISO 14644-1) production environment. Therefore, it is necessary to fulfill require-ments regarding metal contamination and particle generation compatible with industry standards.
Gegund aan
CPV-codes
Europese codes die het voorwerp van de opdracht indelen. Hiermee vinden wij de opdrachten van uw vak.
42900000
Winnende prijzen van vergelijkbare opdrachten
- Een kwart onder
- € 1
- Mediaan
- € 55.426
- Een kwart boven
- € 202.400
Gegunde bedragen excl. btw van de voorbije 3 jaar voor 8 opdrachten uit dezelfde CPV-groep (4290…), zonder raamovereenkomsten. De helft van de opdrachten ligt tussen beide kwartielen. Bron TED: vooral opdrachten boven de Europese drempels, dus eerder hoge bedragen.
Gelijkaardige opdrachten die al gegund zijn
Bron: TED – Publicatiebureau van de Europese Unie © Europese Unie, verwerkte gegevens. Referentie 476033-2026.