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Allemagne – Équipements de laboratoire, d'optique et de précision (excepté les lunettes) – Hotplate zur Temperung großflächiger Substrate für Elektronenstrahllithografie
Avis publié en allemand. L'analyse IA vous le résume dans votre langue.
- Acheteur public
- Friedrich-Schiller-Universität Jena
Jena - Lieu d'exécution
- Jena
- Montant attribué
- 216 125 € HTVA
- Offres reçues
- 2
- Procédure
- Procédure ouverte
Toute entreprise peut remettre une offre. - Publication
- 2 juillet 2026
- Langue de l'avis
- Allemand
Analyse IA : y aller ou pas ?
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Description
Es soll eine halbautomatische Hotplate zur Temperung von mit Resists beschichteten Substraten für hochauflösende Elektronenstrahllithografie beschafft werden. Die Anlage dient zur definierten Pre- und Post-bake chemisch verstärkter Resists, wie bspw. FEP171, bei denen die Empfindlichkeit wesentlich durch das Temperatur Zeit Profil und die Temperatur-Homo genität bestimmt wird.
Zu prozessierende Substrate umfassen u.a. 300mm-Wafer, sowie rechteckiger Glas-Substrate bis zu L x B x H = 300mm × 275mm × 15mm. Aus diesen technischen Randbedingungen ergeben sich die folgenden Anforderungen:, siehe Anlage 2.
Attribué à
Codes CPV
Codes européens qui classent l'objet du marché. C'est grâce à eux que nous retrouvons les marchés de votre métier.
38000000
Prix gagnants des marchés comparables
- Un quart sous
- 121 025 €
- Médiane
- 244 385 €
- Un quart au-dessus de
- 458 150 €
Montants HTVA attribués ces 3 dernières années pour 88 marchés du même groupe CPV (3800…), hors accords-cadres. La moitié des marchés se situe entre les deux quartiles. Source TED : surtout des marchés au-dessus des seuils européens, donc des montants plutôt élevés.
Marchés similaires déjà attribués
Source : TED – Office des publications de l'Union européenne © Union européenne, données retraitées. Référence 455462-2026.