Avviso di aggiudicazione Forniture
Feol etch cluster
Bando pubblicato in neerlandese. L'analisi IA glielo riassume nella sua lingua.
- Acquirente pubblico
- Imec EU Pilot line NV
Heverlee - Luogo di esecuzione
- 3001 Heverlee, Brabante Fiammingo
non pubblicato: indirizzo della stazione appaltante - Offerte ricevute
- 3
- Procedura
- Procedura negoziata con indizione di gara
Prima presenta una candidatura; i candidati selezionati presentano un'offerta e poi negoziano con l'acquirente. - Pubblicazione
- 21 luglio 2026
- Lingua dell'avviso
- Neerlandese
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Descrizione
300mm Dry Etch Platform bestaande uit een Process Module zoals hieronder omschreven: i. Conductor Dry Ether met ICP (Inductively Coupled Plasma) RF Source Power en Dual Bottom Bias capability (RF Bias + DC Pulse Bias aan 400kHz) ii. Deze Process Module moet het vermogen hebben om RF Bias en DC Bias te superponeren.
Deze Process Module is bedoeld voor verschillende FEOL-toepassingen voor N2 technologie node en verder, in het bijzonder CFET (Complementary Field Effect Transistor) toepassingen inclusief maar niet beperkt tot CFET Nanosheet Etch, CFET Full Gate Etch en CFET Source/Drain Recess. Er moeten minimaal 6 procesmoduleslots beschikbaar zijn op het platform voor een mogelijke capaciteits- en functionaliteitsupgrade. Het platform moet minimaal 5 laadpoorten bevatten.
Aggiudicato a
Codici CPV
Codici europei che classificano l'oggetto dell'appalto. Grazie a loro troviamo gli appalti del Suo mestiere.
38000000
Prezzi vincenti di appalti comparabili
- Un quarto sotto
- 251.579 €
- Mediana
- 391.000 €
- Un quarto sopra
- 678.903 €
Importi IVA esclusa aggiudicati negli ultimi 3 anni per 127 appalti dello stesso gruppo CPV (3800…), esclusi gli accordi quadro. La metà degli appalti si colloca tra i due quartili. Fonte TED: soprattutto appalti sopra le soglie europee, quindi importi piuttosto elevati.
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Source : TED – Office des publications de l'Union européenne © Union européenne, données retraitées. Riferimento 503557-2026.