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Euv track (hna/lna)
Avis publié en néerlandais. L'analyse IA vous le résume dans votre langue.
- Acheteur public
- Imec EU Pilot line NV
Heverlee - Lieu d'exécution
- 3001 Heverlee, Brabant flamand
non publié : adresse de l'acheteur - Offres reçues
- 1
- Forme
- Accord-cadre
Contrat de plusieurs années : l'acheteur passe commande au fil de ses besoins. - Procédure
- Procédure négociée sans publication préalable
L'acheteur a directement consulté quelques entreprises : on ne peut plus y participer. - Publication
- 2 octobre 2026
- Langue de l'avis
- Néerlandais
Analyse IA : y aller ou pas ?
Résumé en français, critères, documents à fournir et verdict GO / NO GO en une minute.
Analyses illimitées pendant les 14 jours d'essai Pro, sans carte.
Description
The high NA - EUV track will support a High NA EUV scanner it gets linked to. The track will prepare the wafers before the exposure, this is pre-treatment of the wafers before coating, the coating of underlayer and photo resist followed by a post application bake. After exposure the track will execute the post exposure bake and development of the photo sensitive material to get the pattern fixed.
The track modules need to be precisely controlled to achieve superior results in uniformity within the wafer and from wafer to wafer. It also needs to enable the processing of a wide variety of materials to support the further scaling and continuous evolving semiconductor devices. The low NA - EUV track will support a Low NA EUV scanner it gets linked to.
The track will prepare the wafers before the exposure, this is pre-treatment of the wafers before coating, the coating of underlayer and photo resist followed by a post application bake. After exposure the track will execute the post exposure bake and development of the photo sensitive material to get the pattern fixed. The track modules need to be precisely controlled to achieve superior results in uniformity within the wafer and from wafer to wafer.
It also needs to enable the processing of a wide variety of materials to support the further scaling and continuous evolving semiconductor devices.
Attribué à
2 lots
- JPA2025ID03/55 - 1
- JPA2025ID03/55 - 2
Codes CPV
Codes européens qui classent l'objet du marché. C'est grâce à eux que nous retrouvons les marchés de votre métier.
38000000
Prix gagnants des marchés comparables
- Un quart sous
- 251 579 €
- Médiane
- 391 000 €
- Un quart au-dessus de
- 678 903 €
Montants HTVA attribués ces 3 dernières années pour 127 marchés du même groupe CPV (3800…), hors accords-cadres. La moitié des marchés se situe entre les deux quartiles. Source TED : surtout des marchés au-dessus des seuils européens, donc des montants plutôt élevés.
Marchés similaires déjà attribués
| Marché | Gagnant | Montant |
|---|---|---|
| TDV ETCH Imec EU Pilot line NV · 2 octobre 2026 |
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FEI EUROPE BV | – |
| Micro scale sheet resistance prober Imec EU Pilot line NV · 2 octobre 2026 |
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| Ir laser debonder Imec EU Pilot line NV · 2 octobre 2026 |
EV Group Europe & Asia/Pacific GmbH | – |
| Automatic Capillary Underfill Dispense System Imec EU Pilot line NV · 2 octobre 2026 |
MUSASHI ENGINEERING, INC. | – |
Source : TED – Office des publications de l'Union européenne © Union européenne, données retraitées. Référence 680011-2026.